提升半导体光刻设备生产效率 佳能推出晶圆测量机新品

2月21日，佳能推出半导体制造用晶圆测量机“MS-001”，该产品可以对晶片进行高精度的对准测量。“MS-001”所搭载的调准用示波器安装有区域传感器，可以进行多像素测量，降低测量时的噪音。另外，“MS-001”还可以对多个种类的对准标记进行测量。通过采用新开发的调准用示波器光源，新产品可提供的波长范围比在半导体光刻设备中测量时大1.5倍，能够以用户所需的任意波长进行对准测量。因此，相较于在半导体光刻设备中所进行的测量，“MS-001”所能实现的对准测量精度要更高。

通过引进解决方案平台“Lithography Plus”（2022年9月上市），可以将有关半导体光刻机和“MS-001”的运转情况的相关信息集中到“Lithography Plus”中。将“MS-001”在半导体器件的制造工艺中所获取的测量数据和“Lithography Plus”所集中的信息进行对照监测，就可以检测出晶圆表面对准信息的变化，并在半导体光刻机上进行自动校正。这样就可以实现从对准测量到曝光工艺的集中管理，为降低CoO做贡献。